We're sorry but this page doesn't work properly without JavaScript enabled. Please enable it to continue.
Feedback

Further development of EpiKMC - the julia module for kinetic Monte Carlo of thin film growth

Logo von Weierstraß-Institut für Angewandte Analysis und Stochastik (WIAS)Weierstraß-Institut für Angewandte Analysis und Stochastik (WIAS)
Logo von Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik (IHP)Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik (IHP)
 Miller, Wolfram

Formale Metadaten

Titel
Further development of EpiKMC - the julia module for kinetic Monte Carlo of thin film growth
Serientitel
Anzahl der Teile
20
Autor
Lizenz
CC-Namensnennung 3.0 Deutschland:
Sie dürfen das Werk bzw. den Inhalt zu jedem legalen Zweck nutzen, verändern und in unveränderter oder veränderter Form vervielfältigen, verbreiten und öffentlich zugänglich machen, sofern Sie den Namen des Autors/Rechteinhabers in der von ihm festgelegten Weise nennen.
Identifikatoren
Herausgeber
Erscheinungsjahr
Sprache

Inhaltliche Metadaten

Fachgebiet
Genre
Abstract
The recent extensions will be presented. ACE potentials can be now used via ACEsuit (https://acesuit.github.io/ACEpotentials.jl/dev/). This has been adapted for Si homoepitaxy. EpiKMC has been now also used to study the growth of 2D materials, i.e. of MoS2. Preliminary results will be shown.